[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 201320462091.1 | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN203365917U | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王德帅;郭建 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种曝光装置，涉及微电子领域，可更加简单直观的判断出基板与掩膜板的对位情况，提高了曝光装置的工作效率。本实用新型实施例的曝光装置，包括用于放置基板的基板基台、用于放置掩膜板的掩膜板基台，所述基板上设置有第一对位标记组，所述掩膜板基台上设置有第二对位标记组，所述曝光装置还包括第一物镜组和第二物镜组；所述第一物镜组用于捕捉所述第一对位标记组，所述第二物镜组用于捕捉所述第二对位标记组。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括用于放置基板的基板基台、用于放置掩膜板的掩膜板基台，其特征在于，所述基板上设置有第一对位标记组，所述掩膜板基台上设置有第二对位标记组，所述曝光装置还包括第一物镜组和第二物镜组；所述第一物镜组用于捕捉所述第一对位标记组，所述第二物镜组用于捕捉所述第二对位标记组。
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