[实用新型]基于关联光学的单次成像及存取装置有效

专利信息
申请号: 201320416869.5 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN203365677U 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 陈丽清;张凯;郭进先;边成玲;袁春华;区泽宇;张卫平 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: G01S17/89 分类号: G01S17/89
代理公司: 上海蓝迪专利事务所 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种基于关联光学的单次成像及存取装置,该装置使用激光作为光源,基于存储介质的散射过程,利用强度关联测量实现成像及存取。该装置需要在光路中设置存储介质,并将待测物体放置在探测光路中,写光将待测物体的位相存入存储介质中,读光再将待测物体的位相从存储介质中读出,结合一阶关联测量,通过对单次写读过程中产生的散射光信号进行时间积分的二阶关联计算,可以获得稳定的位相关联函数,从而实现单次成像及存取。相较于传统成像装置,结构合理,操作简单,易于集成,能够实现单次成像及存取。
搜索关键词: 基于 关联 光学 成像 存取 装置
【主权项】:
一种基于关联光学的单次成像及存取装置,它包括:第一光源(1),为写光;第二光源(3),为读光;第一光调制器(29),其沿所述第一光源(1)的光路设置;第二光调制器(31),其沿所述第二光源(3)的光路设置;第一分束器(10),其沿所述第一光源(1)的光路设置,所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路为第一写光光路,透射光路为第二写光光路;第二分束器(12),其沿所述第二光源(3)的光路设置,所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路为第一读光光路,透射光路标记为第二读光光路;第一反射镜(9),其沿第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路即第一写光光路设置;第二反射镜(18),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路即第一读光光路设置;第一半波片(23),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的透射光路即第二写光光路设置;第二半波片(24),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路,即第一写光光路设置;第三半波片(26),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的透射光路即第二读光光路设置;第四半波片(25),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路即第一读光光路设置;第一极化分束器(15),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的透射光路和反射光路即第一写光和第二写光光路设置;第二极化分束器(16),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的透射光路和反射光路即第一读光和第二读光光路及与其反向重合的第一光源(1)经第一分束器(10)后的透射光路和反射光路即第一写光和第二写光光路设置;存储介质单元(32),其设置在所述第一极化分束器(15)和第二极化分束器(16)之间;第一衰减片(28),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路即第一写光光路所产生信号光场的光路设置;第三反射镜(22),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的透射光路即第二写光光路所产生信号光场的光路设置;第三分束器(14),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路和透射光路即第一写光光路和第二写光光路所产生信号光场的光路设置;第一面探测器(5),其沿所述第一光源(1)经第一分束器(10)后的反射光路和透射光路即第一写光光路和第二写光光路所产生信号光场的光路设置;第二衰减片(27),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路即第一读光光路所产生信号光场的光路设置;第四反射镜(21),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的透射光路即第二读光光路所产生信号光场的光路设置;第四分束器(13),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路和透射光路即第一读光光路和第二读光光路所产生信号光场的光路设置;第二面探测器(4),其沿所述第二光源(3)经第二分束器(12)后的反射光路和透射光路,即第一读光光路和第二读光光路所产生信号光场的光路设置;计算机(6),其设置与第一面探测器(5)和第二面探测器(4)连接。
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