[实用新型]一种近红外减反射增透膜有效
申请号: | 201320322580.7 | 申请日: | 2013-06-05 |
公开(公告)号: | CN203287550U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 沈励;陈奇;石富银;许沐华 | 申请(专利权)人: | 天津美泰真空技术有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;B32B9/04 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 张金亭 |
地址: | 301609 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种近红外减反射增透膜,包括PMMA板材,所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜,所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。本实用新型通过采用逐层沉积二氧化钛膜和二氧化硅膜的结构,并通过优化各层膜的厚度,使近红外入射光在经过增透膜减反射后的反射率值维持在2%以下,使790nm~910nm之间的入射光透过率大于94%。本实用新型对手机镜头和数码镜头表面特别适用。 | ||
搜索关键词: | 一种 红外 反射 增透膜 | ||
【主权项】:
一种近红外减反射增透膜,其特征在于,包括PMMA板材,所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜,所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津美泰真空技术有限公司,未经天津美泰真空技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320322580.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。