[实用新型]一种近红外减反射增透膜有效

专利信息
申请号: 201320322580.7 申请日: 2013-06-05
公开(公告)号: CN203287550U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 沈励;陈奇;石富银;许沐华 申请(专利权)人: 天津美泰真空技术有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;B32B9/04
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 张金亭
地址: 301609 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了一种近红外减反射增透膜,包括PMMA板材,所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜,所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。本实用新型通过采用逐层沉积二氧化钛膜和二氧化硅膜的结构,并通过优化各层膜的厚度,使近红外入射光在经过增透膜减反射后的反射率值维持在2%以下,使790nm~910nm之间的入射光透过率大于94%。本实用新型对手机镜头和数码镜头表面特别适用。
搜索关键词: 一种 红外 反射 增透膜
【主权项】:
一种近红外减反射增透膜,其特征在于,包括PMMA板材,所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜,所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。
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