[实用新型]一种可移位辐射源架有效
申请号: | 201320319116.2 | 申请日: | 2013-06-04 |
公开(公告)号: | CN203295594U | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 王朝阳;宫睿 | 申请(专利权)人: | 无锡启晖光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/50 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 贺翔 |
地址: | 214174 江苏省无锡市惠山经济*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型所述的一种可移位辐射源架,包括主转动轴,围绕主转动轴均匀设置若干个基片工件盘,主转动轴与各基片工件盘通过连杆连接,基片工件盘下装有使其自转的次传动轴,在基片工件盘旋转面上下两侧分别设有上部可移动加热辐射体和下部可移动加热辐射体。工作时,首先根据基片工件的位置及工件形状,通过CFdesign仿真出最佳的辐射源曲面参数,然后调整辐射加热源的位置,同时进行温度测试,最后通过微调辐射源位置以达到最佳均匀加热温度及加热时间。本实用新型可以同时加热多个基片,并均匀加热到理想温度。在提高了镀膜质量的同时还大大提高了镀膜机的效率以及加热源的电能利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 移位 辐射源 | ||
【主权项】:
一种可移位辐射源架,其特征在于,包括设在中间位置的主转动轴,围绕主转动轴均匀设置若干个绕主转动轴旋转的基片工件盘,主转动轴与各基片工件盘通过连杆连接,基片工件盘下装有使其自转的次传动轴,在基片工件盘旋转面上下两侧分别设有上部可移动加热辐射体和下部可移动加热辐射体。
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