[实用新型]一种带式滚筒多粒平面磨抛机有效
| 申请号： | 201320279427.0 | 申请日： | 2013-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN203343835U | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 潘皇文 | 申请（专利权）人： | 潘皇文 |
| 主分类号： | B24B9/10 | 分类号： | B24B9/10;B24B29/02;B24B41/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528000 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒上下移动的升降装置I，所述抛光装置包括抛光滚筒、驱动抛光滚筒转动的驱动机构II、驱动抛光滚筒上下移动的升降装置II。本实用新型采用输送带连续不停送料的方式进行研磨抛光加工颗粒产品的平面，达到镜面效果，可根据颗粒产品的大小在输送带上方依次放置多个研磨装置和抛光装置，其加工效率高、产量大、生产成本低，构造简单精巧，消耗电量底，符合国家节能减排的政策需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 滚筒 平面 磨抛机 | ||
【主权项】：
一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：包括输送带(1)、至少一个位于输送带(1)上方的研磨装置(2)、至少一个位于输送带(1)上方的抛光装置(3)，所述研磨装置(2)和抛光装置(3)沿输送带(1)输送方向依次排列，所述研磨装置(2)包括研磨滚筒(21)、驱动研磨滚筒(21)转动的驱动机构I(22)、驱动研磨滚筒(21)上下移动的升降装置I，所述抛光装置(3)包括抛光滚筒(31)、驱动抛光滚筒(31)转动的驱动机构II(32)、驱动抛光滚筒(31)上下移动的升降装置II。
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