[实用新型]一种CE间集成二极管的改进型槽型联栅晶体管有效
申请号: | 201320264132.6 | 申请日: | 2013-05-15 |
公开(公告)号: | CN203242632U | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 张雷;乔宇波;梁明 | 申请(专利权)人: | 深圳市盛元半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/417 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种CE间集成二极管的改进型槽型联栅晶体管,包括集电极引出层、N+衬底层、N+导电层、N-导电层、U型槽、氧化层以及发射极引出层,所述集电极引出层、N+衬底层、N+导电层、N-导电层依次相连、所述N-导电层上设有U型槽,所述U型槽内注有B形成P+扩散层,所述N-导电层、U型槽上设有氧化层,氧化层上设有发射极引出层,所述U型槽还同发射极引出层相连。与传统技术相比,本实用新型为终端客户节约了成本,并同时增加了器件集成度,简化了应用电路。 | ||
搜索关键词: | 一种 ce 集成 二极管 改进型 槽型联栅 晶体管 | ||
【主权项】:
一种CE间集成二极管的改进型槽型联栅晶体管,包括集电极引出层、N+衬底层、N+导电层、N‑导电层、U型槽、氧化层以及发射极引出层,其特征是:所述集电极引出层、N+衬底层、N+导电层、N‑导电层依次相连、所述N‑导电层上设有U型槽,所述U型槽内注有B形成P+扩散层,所述N‑导电层、U型槽上设有氧化层,氧化层上设有发射极引出层,所述U型槽还同发射极引出层相连。
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