[实用新型]清洗槽有效
申请号: | 201320259750.1 | 申请日: | 2013-05-14 |
公开(公告)号: | CN203281549U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 唐强;李广宁 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B08B3/14 | 分类号: | B08B3/14;B08B3/10;B08B3/12 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种清洗槽,包括一内清洗槽,所述内清洗槽具有一底壁以及连接于所述底壁上的四个侧壁,所述内清洗槽还包括:一过滤网;以及一自动开关的槽盖,所述槽盖与所述底壁相对设置并位于所述侧壁上,所述槽盖与所述底壁和侧壁围成一封闭的容纳空间;其中,至少一个所述侧壁在靠近槽盖的一端上设置有一开口,所述开口被所述过滤网覆盖。采用上述清洗槽,可以有效避免了污染物脱落重新落入清洗槽中而造成对晶片的二次污染,降低相关不良的发生率。 | ||
搜索关键词: | 清洗 | ||
【主权项】:
一种清洗槽,包括一内清洗槽,所述内清洗槽具有一底壁以及连接于所述底壁上的四个侧壁,其特征在于,所述内清洗槽还包括:一过滤网;以及一自动开关的槽盖,所述槽盖与所述底壁相对设置并位于所述侧壁上,所述槽盖与所述底壁和侧壁围成一封闭的容纳空间;其中,至少一个所述侧壁在靠近槽盖的一端上设置有一开口,所述开口被所述过滤网覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320259750.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。