[实用新型]一种磁控溅射靶材加工辅助装置有效
| 申请号： | 201320245102.0 | 申请日： | 2013-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN203403148U | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 吴光宇;熊红斌 | 申请（专利权）人： | 吴光宇 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315175 浙江省宁波市鄞*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 针对磁控溅射靶材的溅射问题，本实用新型提供一种磁控溅射靶材加工辅助装置，包括磁钢、靶材、高斯计、扫描杆、电机，其中，靶材安装在磁钢的上面，高斯计位于靶材的正上方，高斯计与扫描杆相连接，扫描杆与电机相连接。本实用新型利用高斯计在靶材正上方进行扫描，扫描的数据可以存储到计算机上，绘制出靶材表面的磁场分布图，为靶材的表面加工成特定的形状提供依据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 加工 辅助 装置 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶材加工辅助装置，包括磁钢、靶材、高斯计、扫描杆、电机，其特征在于：所述的靶材安装在磁钢的上面，高斯计位于靶材的正上方，高斯计与扫描杆相连接，扫描杆与电机相连接。
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