[实用新型]一种薄膜晶体管和阵列基板有效

专利信息
申请号: 201320209102.5 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN203205427U 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 李琳;郝昭慧;张明 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L27/02
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种薄膜晶体管和阵列基板。用以解决现有TFT结构在出现不良现象后无法维修正常的问题,提供一种TFT当其在出现不良时,维修后可正常工作。本实用新型所述薄膜晶体管包括:栅极、半导体层、源极和漏极;所述源极和漏极同层设置,所述半导体层位于所述栅极与源极和漏极所在的膜层之间;所述栅极与所述半导体层相绝缘;其中,所述源极为U形;所述漏极包括呈直线形的第一漏电极,该第一漏电极位于该U形源极的缺口中沿与所述U形源极的底部最低点的切线相平行的方向设置。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 阵列
【主权项】:
一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:栅极、半导体层、源极和漏极;所述源极和漏极同层设置,所述半导体层位于所述栅极与源极和漏极所在的膜层之间;所述栅极与所述半导体层相绝缘;其中,所述源极为U形;所述漏极包括呈直线形的第一漏电极,该第一漏电极位于该U形源极的缺口中沿与所述U形源极的底部最低点的切线相平行的方向设置。
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