[实用新型]一种激光微造型掩膜有效

专利信息
申请号: 201320060546.7 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN203140975U 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 卢轶;冯爱新;薛伟;田良;谢华锟;顾永玉 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: B23K26/18 分类号: B23K26/18
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种激光微造型掩膜,所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘结剂混合制成,所述粘结剂为易蒸发材料,且不与熔覆材料发生反应;所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔,掩膜微孔在掩膜基底上排列成点阵形状;采用本实用新型所述激光微造型掩膜进行激光微造型可以同时实现激光表面熔覆加工与激光表面微造型加工,缩短了加工时间,节约了能量,提高了生产效率。要形成不同的工件表面微凹坑阵列只需更换掩膜而不需要改变激光扫描路线程序,缩小了工作量。
搜索关键词: 一种 激光 造型
【主权项】:
一种激光微造型掩膜,其特征在于,所述激光微造型掩膜由熔覆材料和粘结剂混合制成,所述粘结剂为易蒸发材料,且不与熔覆材料发生反应;所述激光微造型掩膜包括掩膜基底和掩膜微孔,掩膜微孔在掩膜基底上排列成点阵形状。
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