[实用新型]一种新型电镀槽有效
申请号: | 201320023106.4 | 申请日: | 2013-01-03 |
公开(公告)号: | CN203034119U | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 方萌;刘卫东;钱嘉彧;赵玉玲 | 申请(专利权)人: | 浙江师范大学 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D21/14;C25D21/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 321004 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型电镀槽,包括主镀槽、pH控制系统和电镀液循环系统三个部分。其特点是pH控制系统包括pH传感器、pH控制器和药液添加装置,电镀液循环系统是将辅助槽、泵、分别设置在主镀槽上部和下部的出液口和进液口用导管连通。本实用新型的优点是:电镀液的pH值可以得到准确控制,电镀液更均匀,采用这种电镀槽,可以提高电镀质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 电镀 | ||
【主权项】:
一种新型电镀槽,包括主镀槽(1)、pH控制系统和电镀液循环系统三个部分,其特征在于:所述的pH控制系统包括pH传感器(3)、pH控制器(4)和药液添加装置(7),所述的电镀液循环系统包括辅助槽(2)、出液口(8)、进液口(9)、导管(5)和泵(6)。
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