[实用新型]一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置有效
申请号: | 201320014623.5 | 申请日: | 2013-01-11 |
公开(公告)号: | CN203007390U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 尤玉飞;徐春花;王俊鹏;王镜喆;李晶晶;刘玉亮;曹津;李登辉;陈月 | 申请(专利权)人: | 河南科技大学 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/08 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 罗民健 |
地址: | 471000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置,包括由坩埚和与坩埚相配合的坩埚盖所形成的封闭反应腔,反应腔的底壁上设有用于盛放钛源的凹槽,反应腔内还设有设置在凹槽上方的衬底,所述的衬底下表面距离反应腔底壁的垂直高度为5-25mm。本实用新型的装置适用于实验室条件下,不必在该装置的基础上另设辅助装置,减少了实验的成本和设备的运转成本;在使用时,只需将该装置放入加热装置如加热炉内,通过设定所需的参数,即可进行实验操作,制得所需的表面具有凸起的薄膜,设备成本低廉且制得的薄膜效果理想。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 具有 凸起 氧化 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种表面具有凸起的二氧化钛薄膜的沉积装置,其特征在于:包括由坩埚(1)和与坩埚(1)相配合的坩埚盖(2)所形成的封闭反应腔,反应腔的底壁上设有用于盛放钛源的凹槽(5),反应腔内还设有设置在凹槽(5)上方的衬底(3),所述衬底(3)的下表面距离反应腔底壁的垂直高度为5‑25mm。
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