[发明专利]原子层沉积装置

摘要

本发明所公开的是一种原子层沉积装置。所述装置包括反应室、承受器、气体喷射器和排气单元。所述承受器设置在所述反应室中，基板位于所述承受器上。所述气体喷射器设置在所述承受器上方，并且将所述承受器上方限定的空间分隔成多个预定的空间。所述气体喷射器供应来源气、反应气和吹扫气到所分隔的空间中分别布置的基板上。所述排气单元设置在所述承受器上方并且设置成与所述气体喷射器相邻。所述排气单元向上引导来源气、反应气和吹扫气的排气流。

主权项

一种原子层沉积装置，包括：反应室；所述反应室中设置的承受器，所述承受器允许其上面放置多个基板；气体喷射器，所述气体喷射器设置在所述承受器上方并且将所述承受器上方限定的空间分隔成多个预定的空间，所述气体喷射器供应来源气、反应气和吹扫气到所分隔的各个空间中分别设置的基板上；以及排气单元，所述排气单元设置在所述承受器的上方并且设置成与所述气体喷射器相邻，所述排气单元向上引导来源气、反应气和吹扫气的排气流。