[发明专利]PVD去气加热腔有效
| 申请号： | 201310750635.9 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104746009A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 刘红义 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 陈振 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种PVD去气加热腔，包括腔体、多块反射板、支撑装置、加热装置与冷却装置；所述腔体起屏蔽作用，包括侧壁、第一密封盖与第二密封盖；所述侧壁围成中空筒，所述第一密封盖与所述第二密封盖分别置于所述中空筒的两端开口上，围成一个封闭的空腔；所述反射板置于所述空腔的内壁上；多块所述反射板分别布置在所述侧壁、所述第一密封盖与所述第二密封盖上；所述支撑装置置于所述空腔内，并固定于所述第一密封盖上，所述支撑装置用于承载基片；所述加热装置置于所述空腔内，并固定于所述第二密封盖上，所述加热装置用于加热基片；所述冷却装置中通入冷却水，用于快速地降温，避免加热不均和产生无源热源。 | ||
| 搜索关键词： | pvd 加热 | ||
【主权项】：
一种PVD去气加热腔，包括腔体与多块反射板，其特征在于，还包括支撑装置、加热装置与冷却装置；所述腔体起屏蔽作用，包括侧壁、第一密封盖与第二密封盖；所述侧壁围成中空筒，所述第一密封盖与所述第二密封盖分别置于所述中空筒的两端开口上，围成一个封闭的空腔；所述反射板置于所述空腔的内壁上；多块所述反射板分别布置在所述侧壁、所述第一密封盖与所述第二密封盖上；所述支撑装置置于所述空腔内，并固定于所述第一密封盖上，所述支撑装置用于承载基片；所述加热装置置于所述空腔内，并固定于所述第二密封盖上，所述加热装置用于加热基片；所述冷却装置中通入冷却水，用于快速地降温。
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