[发明专利]一种非染料系整平剂的应用有效
申请号: | 201310731859.5 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN103924269A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 董培培;马涛;张芸 | 申请(专利权)人: | 苏州昕皓新材料科技有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 刘懿 |
地址: | 215000 江苏省苏州市吴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种非染料系整平剂的应用,所述整平剂的分子结构式如图。其中阴离子X=Cl-或Br-;R1=O或S或N;R2,R3,R4=H、烷基、烯基、芳烷基、杂芳烷基、取代烷基、取代烯基、取代芳烷基或取代杂芳烷基中的一种,所述的整平剂应用于酸铜电镀工艺。本发明在充分理解酸性镀铜整平剂分子特性和作用机理的基础上,寻求并设计了具有特殊官能团,在分子结构和属性上不同于以往传统整平剂的分子。这类整平剂分子具有水溶性好,无色无毒,对人体无害,操作范围较宽等优点。规避以及克服了传统染料系整平剂的缺陷,促进了非染料系酸铜工艺的发展。 | ||
搜索关键词: | 一种 染料 系整平剂 应用 | ||
【主权项】:
一种非染料系整平剂的应用,所述整平剂的分子结构式为
其中,阴离子X=Cl‑或Br‑;R1=O或S或N;R2,R3,R4=H、烷基、烯基、芳烷基、杂芳烷基、取代烷基、取代烯基、取代芳烷基或取代杂芳烷基中的一种,其特征在于:所述整平剂应用于酸铜电镀工艺。
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