[发明专利]双通道高通量干涉成像光谱装置及方法在审
| 申请号： | 201310728659.4 | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN104748855A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 李建欣;刘德芳;孟鑫;史今赛;朱日宏;郭仁慧;沈华;马骏;陈磊;何勇 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | G01J3/45 | 分类号： | G01J3/45;G02B27/10 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 210094 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双通道高通量干涉成像光谱装置及方法，该装置包括前置光学系统、双通道横向剪切分束系统、第一成像系统和第二成像系统；入射光经前置光学系统，确定目标视场，消除杂散光并形成准直光束，进入双通道横向剪切分束系统，经两个光通道出射，每个通道的出射光被横向剪切，进而引入光程差信息；在两个成像系统的成像物镜后焦面处的探测器靶面上得到携带干涉条纹的目标图像，提取干涉信息，对其进行傅里叶变换,复原目标图像，得到目标各点的光谱信息及各个谱段的二维图像信息。本发明具有高光通量、实现双通道成像的特点；利用双通道光束的横向剪切干涉原理，可以实现双视场拼接进行大画幅成像，也可以实现可见光和红外的双通道成像。 | ||
| 搜索关键词： | 双通道 通量 干涉 成像 光谱 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种双通道高通量干涉成像光谱装置，其特征在于：包括沿光路方向依次放置的前置光学系统（1）、双通道横向剪切分束系统(2)、第一成像系统(3)和第二成像系统(4)；其中，前置光学系统(1)包括共光轴依次设置的前置物镜(11)和准直物镜(12)，前置成像物镜(11)的像面和准直物镜(12)的前焦面重合；双通道横向剪切分束系统(2)包括顺时针依次设置的第一半透半反分束镜（21）、第一反射镜（22）、第二反射镜（23）、第三反射镜（24）、第四反射镜（25）和第二半透半反分束镜（26），其中第一半透半反分束镜（21）、第一反射镜（22）、第二反射镜（23）和第二半透半反分束镜（26）构成一个光通道，第一半透半反分束镜（21）、第三反射镜（24）、第四反射镜（25）和第二半透半反分束镜（26）构成另一个光通道；第一成像系统(3)包括沿光路方向依次设置的成像物镜(31)、探测器(32)，其中探测器(32)的靶面位于成像物镜(31)的后焦面上；第二成像系统(4)包括沿光路方向依次设置的成像物镜(41)、探测器(42)，其中探测器(42)的靶面位于成像物镜(41)的后焦面上；所有光学元件相对于基底同轴等高，即相对于光学平台或仪器底座同轴等高。
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