[发明专利]一种砜基含氟二胺化合物和聚酰亚胺薄膜材料及其制法在审
| 申请号： | 201310698099.2 | 申请日： | 2012-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103739841A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 屠国力;姜鹏飞 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;C07C317/36;C07C315/02;C07C315/04 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 夏惠忠 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种砜基含氟二胺化合物2，2’-双(三氟甲基)-4，4’-二氨基苯基砜，还提供了以该砜基含氟二胺化合物砜基含氟二胺化合物制备的柔性透明聚酰亚胺薄膜。本发明制备砜基含氟二胺的方法，具有合成路线简单，反应条件温和，反应原料来源方便，成本低，有机溶剂使用种类少，能最大程度减少环境污染等特点。本发明的砜基含氟二胺结构中具有砜基、三氟甲基，在制备聚合物材料中可以提高材料的透光率，增加溶解性，降低材料的介电常数和吸水率，因此适用于制备柔性透明聚酰亚胺薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 砜基含氟二胺 化合物 聚酰亚胺 薄膜 材料 及其 制法 | ||
【主权项】：
1.具有以下结构式(II)的柔性透明聚酰亚胺薄膜材料，![]()
式中，R1代表二酐残基；n代表聚合度，其取值范围为：n≥5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310698099.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：卫星天线俯仰调整机构及半自动天线俯仰调整装置
- 下一篇：同轴线缆天线
- 同类专利
- 专利分类
