[发明专利]功率半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 201310685135.1 | 申请日: | 2013-12-13 |
公开(公告)号: | CN103872134A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 金洸洙;徐范锡;郑仁和;朴志贤;朴在勋 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王兆赓;戴嵩玮 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种功率半导体器件及其制造方法,所述功率半导体器件包括:主体区域,具有第一导电性;阱区,形成在主体区域的上部中,并且具有第二导电性;以及导电通过件,形成在主体区域中,同时穿过所述阱区。 | ||
搜索关键词: | 功率 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种功率半导体器件,所述功率半导体器件包括:主体区域,具有第一导电性;阱区,形成在主体区域的上部中,并且具有第二导电性;以及导电通过件,形成在主体区域中,同时穿过所述阱区。
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