[发明专利]沉积源有效
| 申请号： | 201310684466.3 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104120385B | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 洪宰敏;朴峻永 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人： | 余朦,杨莘 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 沉积源包括主体和多个喷嘴，其中所述主体具有预定长度，所述多个喷嘴形成于所述主体上且将沉积材料发射至设置有掩模的衬底上。所述主体被形成为使得从所述主体的中心向所述主体的端部，所述主体与所述衬底之间的距离逐渐增加，或者所述主体被形成为使得从所述主体的中心向所述主体的相对端部，所述喷嘴与所述衬底之间的距离逐渐增加，因而减少当所述沉积材料被沉积在所述衬底上时所述掩模导致的阴影区域。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 | ||
【主权项】：
一种沉积源，包括：主体，具有预定长度；多个喷嘴，形成于所述主体面向设置有掩模的衬底的一侧上以将沉积材料发射至所述衬底上，所述主体被形成为使得从所述主体的中心向所述主体的相对端部，所述主体与所述衬底之间的距离逐渐增加，以使得所述喷嘴被布置为从所述主体的中心向所述主体的相对端部，所述喷嘴与所述衬底之间的距离逐渐增加。
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