[发明专利]一种热膨胀系数适配微波毫米波模块集成结构制作方法有效
申请号: | 201310669659.1 | 申请日: | 2013-12-10 |
公开(公告)号: | CN103824781A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 王斌;路波;李红伟;宋志明 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 龚燮英 |
地址: | 266555 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种热膨胀系数适配微波毫米波模块集成结构制作方法,采用增加缓冲片的方法,在MMIC芯片与铝合金屏蔽腔体之间增加过渡层,缓冲片的热膨胀系数介于MMIC芯片与铝合金之间,但更接近于MMIC芯片的热膨胀系数。采用上述方案,解决了MMIC芯片与屏蔽腔体之间铜丝与镀金薄膜电路基片锡焊互联时因“金脆”现象的存在而引起的可靠性下降问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 热膨胀 系数 微波 毫米波 模块 集成 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
一种热膨胀系数适配微波毫米波模块集成结构制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、经过下料、线切割、铣削工艺过程制作屏蔽腔体坯体;步骤2、采用铣削工艺加工缓冲片集成槽;步骤3、经过下料、线切割、铣削工艺过程制作缓冲片;步骤4、采用保护漆将屏蔽腔体坯体中缓冲片集成槽以外的区域进行喷涂,并预留缓冲片集成槽及其槽边1‑2毫米作为局部电镀的工艺窗口;步骤5、将缓冲片集成槽及其槽边1‑2毫米采用电镀技术实现局部镀金处理,并将屏蔽腔体去除保护漆;步骤6、将缓冲片的整体进行电镀金;步骤7、将缓冲片焊接到缓冲片集成槽中;步骤8、将焊接后的屏蔽腔体底部采用铣削工艺进行整平,并设置屏蔽腔体底部加工尺寸满足最终设计要求;步骤9、将屏蔽腔体的整体镀金;步骤10、将MMIC芯片集成到屏蔽腔体的缓冲片上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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