[发明专利]提高光刻机作业效率的方法有效
| 申请号： | 201310655037.3 | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN104698762B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 洪雪辉;陈卢佳 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司31211 | 代理人： | 高月红 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高光刻机作业效率的方法，包括步骤1）步进式光刻机关联工程的掩膜版与扫描式光刻机关联工程的掩膜版成90度旋转；2）关联的对准标记与套刻测量标记均以步进式光刻机的曝光尺寸为单位进行放置。本发明通过调整在步进式光刻机上的曝光方向，在最大限度利用扫描式光刻机产能的基础上，减少步进式光刻机的损失，从而最大程度提升光刻机的整体作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 光刻 作业 效率 方法 | ||
【主权项】：
一种提高光刻机作业效率的方法，其特征在于，包括步骤：1)掩膜版制作的排版步进式光刻机关联工程的掩膜版与扫描式光刻机关联工程的掩膜版成90度旋转；所述步骤1)的具体步骤为：扫描式光刻机关联工程的排版按照正常方式进行；步进式光刻机关联工程的排版则将图形进行90度的旋转，Y方向尺寸与扫描式光刻机曝光X方向一致，X方向尺寸为扫描式光刻机曝光Y方向的一半；2)掩膜版上对准标记与套刻测量标记的放置关联的对准标记与套刻测量标记均以步进式光刻机的曝光尺寸为单位进行放置。
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