[发明专利]高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器有效

专利信息
申请号: 201310652143.6 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN103633559A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 王涛;刘俊岐;刘峰奇;张锦川;王利军;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 种高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器,包括:一高掺杂的接收衬底;一下金属波导光限制层,该下金属波导光限制层是由金属热键合形成,并位于接收衬底上;一下接触层,位于下金属波导光限制层上;一有源层,该有源层生长在下接触层上;一上接触层,该上接触层生长在该有源层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;一上金属层,该上金属层由电子束蒸发于上接触层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;其中,下金属层和下接触层构成下等离子体波导,上金属层和上接触层构成上等离子体波导,上下等离子体波导构成双面金属波导结构;所述下接触层、有源层、上接触层和上金属层被制作成环形结构,环形的有源层形成了环形谐振腔。
搜索关键词: 功率 发散 半导体 赫兹 垂直面 发射 激光器
【主权项】:
一种高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器,包括:一高掺杂的接收衬底;一下金属波导光限制层,该下金属波导光限制层是由金属热键合形成,并位于接收衬底上;一下接触层,位于下金属波导光限制层上;一有源层,该有源层生长在下接触层上;一上接触层,该上接触层生长在该有源层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;一上金属层,该上金属层由电子束蒸发于上接触层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;其中,下金属层和下接触层构成下等离子体波导,上金属层和上接触层构成上等离子体波导,上下等离子体波导构成双面金属波导结构;所述下接触层、有源层、上接触层和上金属层被制作成环形结构,环形的有源层形成了环形谐振腔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310652143.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top