[发明专利]高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器有效
申请号: | 201310652143.6 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN103633559A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 王涛;刘俊岐;刘峰奇;张锦川;王利军;王占国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 种高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器,包括:一高掺杂的接收衬底;一下金属波导光限制层,该下金属波导光限制层是由金属热键合形成,并位于接收衬底上;一下接触层,位于下金属波导光限制层上;一有源层,该有源层生长在下接触层上;一上接触层,该上接触层生长在该有源层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;一上金属层,该上金属层由电子束蒸发于上接触层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;其中,下金属层和下接触层构成下等离子体波导,上金属层和上接触层构成上等离子体波导,上下等离子体波导构成双面金属波导结构;所述下接触层、有源层、上接触层和上金属层被制作成环形结构,环形的有源层形成了环形谐振腔。 | ||
搜索关键词: | 功率 发散 半导体 赫兹 垂直面 发射 激光器 | ||
【主权项】:
一种高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器,包括:一高掺杂的接收衬底;一下金属波导光限制层,该下金属波导光限制层是由金属热键合形成,并位于接收衬底上;一下接触层,位于下金属波导光限制层上;一有源层,该有源层生长在下接触层上;一上接触层,该上接触层生长在该有源层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;一上金属层,该上金属层由电子束蒸发于上接触层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;其中,下金属层和下接触层构成下等离子体波导,上金属层和上接触层构成上等离子体波导,上下等离子体波导构成双面金属波导结构;所述下接触层、有源层、上接触层和上金属层被制作成环形结构,环形的有源层形成了环形谐振腔。
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