[发明专利]电感耦合等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201310565810.7 | 申请日： | 2013-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103811262B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木和男;里吉务;山泽阳平;古屋敦城;齐藤均 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够使用金属窗对大型的被处理基板进行均匀的等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。本发明的电感耦合等离子体处理装置对矩形的基板实施电感耦合等离子体处理，具备收容基板的处理室；用于在处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线；和配置在生成电感耦合等离子体的等离子体生成区域与高频天线之间，与基板对应地设置的呈矩形的金属窗，金属窗（2）以电绝缘的方式被分割成包括长边（2a）的第一区域（201）和包括短边（2b）的第二区域（202），其中，第二区域（202）的径向的宽度（a）与第一区域（201）的径向的宽度（b）之比a/b在0.8以上1.2以下的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种电感耦合等离子体处理装置，其对矩形的基板实施电感耦合等离子体处理，所述电感耦合等离子体处理装置的特征在于，具备：收容基板的处理室；用于在所述处理室内的配置基板的区域生成电感耦合等离子体的高频天线；和配置在生成所述电感耦合等离子体的等离子体生成区域与所述高频天线之间，与基板对应地设置的呈矩形的金属窗，所述金属窗以电绝缘的方式被分割成包括长边的第一区域和包括短边的第二区域，所述金属窗具有：从该金属窗的四角在45°±6°的方向上延伸的4条第一分割线；和将所述第一分割线中分别夹着所述短边的2条第一分割线相交的2个交点连结的、与所述长边平行的第二分割线，由这些第一分割线和第二分割线分割成所述第一区域和所述第二区域，其中，一侧的所述交点和一侧的所述短边之间的距离a与所述第二分割线和所述长边之间的距离b之比a/b为0.8以上1.2以下的范围。
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