[发明专利]一种石墨烯/MoS2/Si异质结薄膜太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201310565093.8 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN103579419B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 马锡英 | 申请(专利权)人: | 苏州科技学院 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/074;C23C16/44;C23C16/30 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215009 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种石墨烯/MoS2/Si 异质结薄膜太阳能电池及其制备方法。采用气体携载液相MoS2分子的化学气相沉积方法,能较好控制流量和反应速度,得到超薄的、大面积均匀、表面平整粗糙度很小的MoS2薄膜,有效减小了p‑MoS2/n‑Si异质结的界面特型,减小漏电流,提高太阳能电池的光电转换效率。利用化学气相沉积方法得到的大面积均匀、透明性和导电性良好的石墨烯薄膜作为透明导电电极,MoS2/Si 异质结对光生电子、空穴有很强的收集作用,提高了太阳能电池的光伏效应和转换效率。本发明提供的太阳能电池在100 mW白光照射下,其开路电压达到0.98V,短路电流达到4.6 mA,光能转换效率达到4.5%。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 mos2 si 异质结 薄膜 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种石墨烯/MoS2/Si 异质结薄膜太阳能电池的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)衬底清洗:以n‑Si (111)片为衬底,用稀HF酸浸泡去除Si表面的二氧化硅,再依次用丙酮、乙醇、去离子水超声波清洗,去除硅片上的有机物,用氮气吹干,放入石英管进行沉积处理;石英管的真空度为10‑2 Pa, 加热到300℃维持10分钟,以去除硅片表面的水汽; (2)MoS2薄膜制备:将石英管加热到500~600℃,用氩气作为携载气体,通入以稀硫酸为溶剂的MoS2溶液,在所述的MoS2溶液中加入Al(NO3)3溶液,以Al(NO3)3作为Al掺杂剂对MoS2进行p型掺杂,按质量比,MoS2:Al(NO3)3为 1:20~1:50 ;气携载MoS2和Al(NO3)3 进入石英管在n‑Si (111)片进行吸附、成核和生长5~10分钟后,将石英管升温到950℃进行退火处理,退火时间为20~40分钟,得到MoS2/Si pn结;(3)将石英管温度维持在950℃,甲烷分解为碳原子和氢气,在氩气10~30 sccm流量的气相输运作用下碳原子到达已形成的MoS2/Si pn结的MoS2表面并被吸附到表面,在衬底表面迁移后在衬底表面成核,再通过范德瓦尔斯吸引力吸引其它碳原子,并与成键的碳原子形成六角网状结构的石墨烯薄膜;(4)对n‑Si (111)片的下表面蒸镀铝电极,形成太阳能电池的阴极,得到一种石墨烯/MoS2/Si异质结太阳能电池。
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