[发明专利]一种在钕铁硼磁体电镀黑镍的方法有效
申请号: | 201310561208.6 | 申请日: | 2013-11-12 |
公开(公告)号: | CN104630853B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 姜兵;宁红;董文雪;姜昊 | 申请(专利权)人: | 北京中科三环高技术股份有限公司 |
主分类号: | C25D5/14 | 分类号: | C25D5/14;C25D3/12 |
代理公司: | 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陈立航;郭红燕 |
地址: | 100190 北京市海淀区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种在钕铁硼磁体电镀黑镍的方法。该方法包括以下步骤:按常规的方法电镀镍铜镍;活化镀有镍铜镍的钕铁硼磁体,以便进行电镀黑镍;镀黑镍,使用黑镍电镀液对活化后的镀有镍铜镍的钕铁硼磁体电镀黑镍,所述黑镍电镀液中含有:2质量份氯化镍、1质量份硫酸亚锡、0.4质量份络合剂、0.6质量份发黑剂和0.1质量份硫酸钴。 | ||
搜索关键词: | 一种 钕铁硼 磁体 电镀 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在钕铁硼磁体电镀黑镍的方法,包括以下步骤:按常规的方法对钕铁硼磁体电镀镍铜镍;活化镀有镍铜镍的钕铁硼磁体,以便进行电镀黑镍;镀黑镍,使用黑镍电镀液对活化后的镀有镍铜镍的钕铁硼磁体电镀黑镍,所述黑镍电镀液中含有:氯化镍150‑200g/L、硫酸亚锡70‑110g/L,络合剂20‑50g/L、发黑剂40‑70g/L和硫酸钴10‑20g/L,所述黑镍电镀液的pH 值为4.0‑6.0。
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