[发明专利]gamma放射性气体体源绝对探测效率刻度装置及方法有效
申请号: | 201310551798.4 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103592670A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 何小兵;李雪松;解峰;余功硕;师全林;张小林;姜文刚 | 申请(专利权)人: | 西北核技术研究所 |
主分类号: | G01T1/00 | 分类号: | G01T1/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 王少文 |
地址: | 71002*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明gamma放射性气体体源绝对探测效率刻度装置及方法,包括标准面源、固体小面源、固体大面源、气体大面源、气体体源和探测器;在气体大面源的内部腔体高度H小于某特定值Y时,固体大面源和气体大面源的gamma射线绝对探测效率偏差小于0.5%,即可认为两者的探测效率在0.5%以内等效。取Y值制备气体大面源,由容易测量探测效率的固体大面源得到气体大面源的等效探测效率,由气体大面源与气体体源的体积之比可得到气体体源的探测效率。本发明巧妙运用质量过渡、效率等效、体积过渡等方法实现了任意形状不变形气体体源的绝对探测效率刻度。该装置和方法简便易实现。 | ||
搜索关键词: | gamma 放射性 气体 绝对 探测 效率 刻度 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种gamma放射性气体体源绝对探测效率刻度装置,其特征在于:包括标准面源(1)、固体小面源(2)、固体大面源(3)、气体大面源(4)、气体体源(5)和探测器(6);所述标准面源(1)与固体小面源(2)均为圆柱状,具有相同的结构、尺寸和材料;所述标准面源(1)具有已知活度,置于探测器(6)上部距离L处用于标定gamma射线的绝对探测效率,其中L大于15cm;所述固体大面源(3)为圆柱状,与固体小面源(2)同时采用gamma放射性溶液制备,使得gamma放射性物质均匀分布于小面源载体材料(9)和固体大面源载体材料(8)上并被密封,所述固体大面源(3)与固体小面源(2)的活度之比为溶液质量之比;所述固体大面源(3)的直径D1大于固体小面源(2)的直径d1;所述固体大面源(3)和气体大面源(4)的封装材料相同,内外直径相同,底板厚度均为h,气体大面源(4)的内部腔体高度为H;所述气体大面源(4)预留细进气口(7);所述气体体源(5)预留进气口(10),两者均配备阀门(13);所述气体大面源(4)预留细进气口(7)的内径d2小于3mm。
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