[发明专利]用于去除溶剂的装置和使用该装置的光刻装置有效
| 申请号： | 201310542617.1 | 申请日： | 2013-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103901739B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 朴在殷 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余朦;王艳春 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种溶剂去除装置。一方面包括室、第一泵、消音器、阀以及排放单元。室使形成在衬底上的涂层干燥。第一泵吸入从室的涂层气化的溶剂并排放气化的溶剂。消音器减小第一泵的排放噪声并容纳从第一泵提供的气化的溶剂的液化的溶剂。阀排放容纳在消音器中的液化的溶剂。排放单元排放从消音器提供的气化的溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 溶剂 装置 使用 光刻 | ||
【主权项】：
1.溶剂去除装置，包括：/n室，配置成使形成在衬底上的涂层干燥，所述衬底设置在所述室中；/n第一泵，配置成吸入从所述涂层气化的溶剂并排放该气化的溶剂；/n消音器，配置成减少所述第一泵的排放噪声并容纳从所述第一泵提供的所述气化的溶剂的液化的溶剂；/n阀，配置成排放容纳在所述消音器中的所述液化的溶剂；以及/n排放单元，配置成排放从所述消音器提供的所述气化的溶剂。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310542617.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有螺纹底座的多端口常通叠加阀门
- 下一篇：一种快速化解胆结石的组合药物
