[发明专利]一种等离子体加工设备

摘要

本发明涉及一种等离子体加工设备；其包括腔室，在腔室内设置有第一间隔件，用以将腔室分隔成沿竖直方向由下至上依次排列的第一子腔室和第二子腔室，并且，第一间隔件具有一个通孔，用以连通第一子腔室和第二子腔室；第一子腔室内设置有基座和升降驱动机构，基座用于承载被加工工件；升降驱动机构用于驱动基座上升或下降，并且，在基座经过第一间隔件时，基座的外周壁与该第一间隔件的通孔相配合，以隔离第一子腔室和第二子腔室。上述等离子体加工设备中用于对被加工工件进行不同工艺处理的多个工艺腔室无需沿水平方向依次设置，减少了等离子体加工设备的占地空间，还缩短了被加工工件在不同的工艺腔室之间的传输路径，提高了传输效率。

主权项

一种等离子体加工设备，其特征在于，包括腔室，在所述腔室内设置有第一间隔件，用以将所述腔室分隔成沿竖直方向由下至上依次排列的第一子腔室和第二子腔室，并且，所述第一间隔件具有一个通孔，用以连通所述第一子腔室和第二子腔室；所述第一子腔室内设置有基座和升降驱动机构，所述基座用于承载被加工工件；所述升降驱动机构用于驱动所述基座上升或下降，并且，在所述基座经过所述第一间隔件时，所述基座的外周壁与该第一间隔件的通孔相配合，以隔离所述第一子腔室和第二子腔室；所述第二子腔室内设置有至少一个第二间隔件，用以将所述第二子腔室分隔成沿竖直方向依次排列的多个第三子腔室，并且，所述第二间隔件具有一个通孔，用以连通与其相邻的两个第三子腔室，并且，在所述基座经过所述第二间隔件时，所述基座的外周壁与该第二间隔件相配合，以隔离与该第二间隔件相邻的两个第三子腔室；除了位于最上方的第三子腔室之外，其余的各个第三子腔室的顶部均设有第一隔离阀门，用以隔离或连通与该第一隔离阀门相邻的两个第三子腔室。