[发明专利]变容二极管、电器件及其制造方法无效
申请号: | 201310531351.0 | 申请日: | 2013-11-01 |
公开(公告)号: | CN103811562A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | G.贝蒂内希;J.迪特尔;R.派希尔 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/93 | 分类号: | H01L29/93;H01L29/06;H01L21/329 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王岳;胡莉莉 |
地址: | 德国瑙伊比*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是变容二极管、电器件及其制造方法。电器件包括半导体材料。所述半导体材料包括:具有第一导电型的所述半导体材料的第一区域;具有与所述第一导电型互补的第二导电型的所述半导体材料的第二区域;以及所述第一区域与所述第二区域之间的所述半导体材料的中间区域。所述第一区域和所述第二区域经由所述中间区域位于彼此邻接以致形成二极管结构。所述中间区域的形状从所述第一区域到所述第二区域逐渐变细。 | ||
搜索关键词: | 变容二极管 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种包括半导体材料的电器件,所述电器件包括:具有第一导电型的所述半导体材料的第一区域;具有与所述第一导电型互补的第二导电型的所述半导体材料的第二区域;以及所述第一区域与所述第二区域之间的所述半导体材料的中间区域,使得所述第一区域和所述第二区域经由所述中间区域位于彼此邻接以致形成二极管结构,其中所述中间区域的形状从所述第一区域到所述第二区域逐渐变细。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310531351.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类