[发明专利]一种太阳能级硅片水基清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201310527799.5 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103571647A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 郭万东;孟祥法;董培才 | 申请（专利权）人： | 合肥中南光电有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/86 | 分类号： | C11D1/86;C11D3/60;C11D3/20;C11D3/28 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 231600 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种太阳能级硅片水基清洗剂，由下列重量份的原料制成：十二烷基苯磺酸钠2-3、四甲基氢氧化铵3-4、椰油酰单乙醇胺5-6、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠1-2、柠檬酸2-3、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明清洗剂对金属离子、有机物、固体颗粒都能快速清除,无需复杂的制备工艺,大大地提高了生产的效率；清洗剂安全环保,与传统硅片清洗剂相比,常温使用,清洗效率高,对硅片无过腐蚀,并且成本有所下降。本发明的助剂能够在电路板表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀电路板，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳 能级 硅片 水基清 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种太阳能级硅片水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：十二烷基苯磺酸钠2‑3、四甲基氢氧化铵3‑4、椰油酰单乙醇胺5‑6、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠1‑2、柠檬酸2‑3、乙醇30‑40、助剂4‑5、去离子水100‑120；所述助剂由下列重量份的原料制成：硅烷偶联剂KH‑570 2‑3、抗氧剂1035 1‑2、植酸1‑2、吗啉3‑4、甲基丙烯酸‑2‑ 羟基乙酯3‑4、乙醇12‑15；制备方法是将硅烷偶联剂KH‑570 、植酸、乙醇混合，加热至60‑70℃，搅拌20‑30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80‑85℃，搅拌30‑40分钟，即得。
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