[发明专利]测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法有效

专利信息
申请号: 201310525910.7 申请日: 2013-10-29
公开(公告)号: CN103558218A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 李阁平;张利峰;李明远;王练;彭胜;吴松全;高博;顾恒飞;庞丽侠 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 樊南星
地址: 110015 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法,其步骤依次是:制备金相样品并进行金相观察;通过金相分析得到视场内每个第二相的几何中心坐标(X Y),并将每一个坐标值保存到文本文件中;进行第二相均匀性测定:测定视场内所有第二相颗粒在二维平面内的平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt,并将平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt随试样位置变化绘成曲线图,通过曲线图直观反映第二相均匀性情况及随试样位置的变化。本发明把基体中第二相信息与数学方法相结合,其操作简单、结果准确可靠,适用于数目较多时的数据统计。其具有较大的经济价值和社会价值。
搜索关键词: 测定 第二 基体 分布 均匀 方法
【主权项】:
1.测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法,其特征在于:其步骤依次是:首先,制备金相样品并进行金相观察;然后,通过金相分析得到视场内每个第二相的几何中心坐标(X Y),并将每一个坐标值保存到文本文件中;最后,进行第二相均匀性测定:测定视场内所有第二相颗粒在二维平面内的平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt,随试样位置不同,选择对应的视场,测定相应的平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt,并且将平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt随试样位置变化绘成曲线图,通过曲线图直观反映第二相均匀性情况及随试样位置的变化。
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