[发明专利]测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法有效
申请号: | 201310525910.7 | 申请日: | 2013-10-29 |
公开(公告)号: | CN103558218A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 李阁平;张利峰;李明远;王练;彭胜;吴松全;高博;顾恒飞;庞丽侠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人: | 樊南星 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: |
测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法,其步骤依次是:制备金相样品并进行金相观察;通过金相分析得到视场内每个第二相的几何中心坐标(X Y),并将每一个坐标值保存到文本文件中;进行第二相均匀性测定:测定视场内所有第二相颗粒在二维平面内的平均最近邻、次最近邻的定义间距 |
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搜索关键词: | 测定 第二 基体 分布 均匀 方法 | ||
【主权项】:
1.测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法,其特征在于:其步骤依次是:首先,制备金相样品并进行金相观察;然后,通过金相分析得到视场内每个第二相的几何中心坐标(X Y),并将每一个坐标值保存到文本文件中;最后,进行第二相均匀性测定:测定视场内所有第二相颗粒在二维平面内的平均最近邻、次最近邻的定义间距
和对应标准偏差σt,随试样位置不同,选择对应的视场,测定相应的平均最近邻、次最近邻的定义间距
和对应标准偏差σt,并且将平均最近邻、次最近邻的定义间距
和对应标准偏差σt随试样位置变化绘成曲线图,通过曲线图直观反映第二相均匀性情况及随试样位置的变化。
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