[发明专利]行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管有效

专利信息
申请号: 201310518342.8 申请日: 2013-10-28
公开(公告)号: CN103545399A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 江之韵;谢红云;张良浩;霍文娟;张万荣 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L31/11 分类号: H01L31/11;H01L31/0352;H01L31/0304
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管(DHPT)。采用双异质结结构,包括一InP发射区-InGaAsP基区构成的(e-b)异质结和一InGaAsP基区-InGaAsP集电区构成的(b-c)异质结,代替传统异质结光敏晶体管(HPT)e-b结单异质结结构;一掺杂浓度很高的InGaAsP基区作为DHPT的光吸收层;一InGaAsP基区,InGaAsP集电区和InGaAsP次集电区形成的渐变耦合脊波导结构实现被探测光被侧边探测吸收,代替传统HPT光从顶端垂直入射的方式。光传输方向与载流子传输方向垂直,能分别优化光吸收效率和工作速度。一发射极电极和集电极电极构成的行波电极,可以有效的减少传统电极在传输高频信号时的分布效应,减少寄生电容对高速传输的影响,进一步提高器件的工作速度。
搜索关键词: 行波 电极 渐变 耦合 波导 inp 双异质结 光敏 晶体管
【主权项】:
一种行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管,其特征在于包括: 一InP衬底(1),InP缓冲层(2),InGaAsP次集电区(3),InGaAsP集电区(4),InGaAsP过渡层(5),InGaAsP基区(6),InP发射区(7),InP盖层(8),各层按序号由小到大的顺序依次生长在InP衬底(1)之上;InGaAs欧姆接触层(9)生长InP盖层(8)上, 所述InGaAsP基区(6)、InGaAsP集电区(4)和InGaAsP次集电区(3)构成渐变耦合脊波导结构, 聚酰亚胺层(10)覆盖在InGaAs接触层(9)和InGaAsP次集电层(3)之上,开出电极窗口,一发射极(11),第一集电极(12)、第二集电极(13)、第三集电极(14)、第四集电极(15)采用溅射的方法制作在InP衬底(1)和聚酰亚胺层(10)上,然后刻蚀出行波电极。 
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