[发明专利]溅射镀膜装置和真空镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201310512809.8 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN103789737A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 托斯滕·桑德尔;米夏埃尔·亨切尔 申请(专利权)人: 冯·阿德纳设备有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨靖;车文
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种溅射镀膜装置和真空镀膜设备,该溅射镀膜装置包括带有固定法兰和至少一个承载型材的支承装置,承载型材具有自由端部和与固定法兰连接的联接端部,还包括至少一个在支承装置上平行于承载型材安装的溅射磁控管,溅射磁控管带有自由端部和联接端部,其中,该联接端部与供应装置连接,该供应装置布置在固定法兰的与溅射磁控管对置的一侧上,其中,承载型材通入固定法兰的第一抽吸口并且在第一抽吸口上在固定法兰的与承载型材对置的一侧上布置有真空泵。
搜索关键词: 溅射 镀膜 装置 真空镀膜 设备
【主权项】:
一种溅射镀膜装置,其包括带有固定法兰(11)和至少一个承载型材(12)的支承装置(1),所述承载型材具有自由端部和与所述固定法兰(11)连接的联接端部,所述溅射镀膜装置还包括至少一个在所述支承装置(1)上平行于承载型材(12)安装的溅射磁控管(2),所述溅射磁控管带有自由端部(21)和联接端部(22),其中,该联接端部(22)与供应装置(23)连接,所述供应装置布置在所述固定法兰(11)的与所述溅射磁控管(2)对置的一侧上,其特征在于,所述承载型材(12)通入所述固定法兰(11)的第一抽吸口(15)并且在所述第一抽吸口(15)上在所述固定法兰(11)的与所述承载型材(12)对置的一侧上布置有真空泵(4)。
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