[发明专利]一种阵列式硅片装载靶盘有效
申请号: | 201310500221.0 | 申请日: | 2013-10-23 |
公开(公告)号: | CN103594553A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 许波涛;易文杰;孙雪平 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/683;H01J37/20 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明涉及一种太阳能光伏装备,具体为一种阵列式硅片装载靶盘,包括带外框体的支撑台和支撑台上方安装的N个呈水平阵列式排列的静电吸附盘,硅片装载靶盘还包括设在支撑台下凹空间内的硅片顶架,硅片顶架包括用于支撑硅片的顶架框,并在支撑台下方设有控制硅片顶架上下运动的顶架驱动机构;所述硅片顶架的顶架框上设有与对应静电吸附盘连接的定位连接机构。通过本发明的阵列式硅片装载靶盘,可以在有限的空间内装载多个硅片同时进行工艺处理,提高生产效率,独立吸盘可以更稳定可靠吸持硅片,还可降低硅片的温度,维持硅片在一定温度范围内,满足工艺要求,特别适合高真空洁净环境中的硅片工艺处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 硅片 装载 | ||
【主权项】:
一种阵列式硅片装载靶盘,包括带外框体(14)的支撑台(2)和支撑台(2)上方安装的N个呈水平阵列式排列的静电吸附盘(1),其特征是,所述硅片装载靶盘还包括设在支撑台(2)下凹空间内的硅片顶架(3),硅片顶架包括用于支撑硅片的顶架框(7),并在支撑台(2)下方设有控制硅片顶架(3)上下运动的顶架驱动机构(4);所述硅片顶架(3)的顶架框(7)上设有与对应静电吸附盘(1)连接的定位连接机构; 所述静电吸附盘(1)内设有静电吸附盘冷却液循环流道(13),静电吸附盘(1)的底面设有向静电吸附盘冷却液循环流道(13)内通入冷却液的第二进液口(15)、从静电吸附盘冷却液循环流道(13)内排出冷却液的第二出液口(16);所述支撑台(2)内设有支撑台冷却液进液流道和支撑台冷却液出液流道,每个第二进液口(15)下方的支撑台冷却液进液流道上对应设有一个第一进液口(8),每个第二出液口(16)下方的支撑台冷却液出液流道上对应设有一个第一出液口(9);所述第二进液口(15)与对应的第一进液口(8)连接,而第二出液口(16)与对应的第一出液口(9)连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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