[发明专利]增印保护膜

摘要

一种增印保护膜，包括基材层、增印涂层、有机硅压敏胶层和雾面离型纸，雾面离型纸由第一淋膜层、离型纸原纸层、第二淋膜层、雾面涂层和离型剂涂层依次层叠构成，在淋膜层上涂覆一层雾面涂层剂，其通过以下工艺获得：将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液；将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；将预分散液、聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌；在调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金并依次进行机械搅拌和超声波搅拌。本发明增印保护膜使得有机硅胶面雾度效果好，使得胶面达到低反光效果；且提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性。

主权项

一种增印保护膜，包括一基材层（1），此基材层（1）上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层（2），此基材层（1）下表面通过有机硅压敏胶层（3）与一雾面离型纸（4）粘合连接，其特征在于：所述雾面离型纸（4）由第一淋膜层（5）、离型纸原纸层（6）、第二淋膜层（7）、雾面涂层（8）和离型剂涂层（9）依次层叠构成，所述雾面涂层朝向离型剂涂层的表面的表面粗糙度为2.821um~3.324um；所述制备工艺主要由下列步骤组成：第一步：在离型纸原纸的两侧表面，用淋膜机各淋膜一层淋膜层，然后冷却；第二步：在任意一淋膜层上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得：步骤1. 将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液；步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金并依次进行机械搅拌和超声波搅拌获得所述雾面离型溶剂；第三步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层；第四步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。