[发明专利]时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法及装置有效

专利信息
申请号: 201310460512.1 申请日: 2013-09-29
公开(公告)号: CN103487421A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 匡翠方;李帅;葛剑虹;刘旭 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法,包括以下步骤:1)激发光经显微物镜投射到的待测样品之上,对待测样品进行宽敞激发发出荧光;2)损耗光通过光束调制模块进行调制后,同样经显微物镜投射到待测样品上,形成暗斑阵列状照明光斑,对宽敞激发区域进行受激辐射损耗;3)待测样品在受激辐射损耗后发出的荧光由显微物镜收集,并聚焦投射到光电感应器件上,得到待测样品的荧光图像;4)平移待测样品,并重复步骤1)~3),对待测样品进行水平二维扫描,得到与各扫描位置相对应的荧光图像;5)对所有荧光图像进行平移、叠加处理,最终恢复出二维超分辨图像。本发明还公开了一种时间门控宽场受激辐射超分辨显微装置。
搜索关键词: 时间 门控 宽场受激 辐射 分辨 显微 方法 装置
【主权项】:
一种时间门控宽场受激辐射超分辨显微方法,其特征在于,包括以下步骤:1)激发光经显微物镜投射在位于纳米水平位移台的待测样品之上,对所述的待测样品进行宽敞激发发出荧光;2)损耗光通过光束调制模块进行调制后,同样经所述的显微物镜投射到所述的待测样品上,形成暗斑阵列状照明光斑,对宽敞激发区域进行受激辐射损耗;3)所述待测样品在受激辐射损耗后发出的荧光由显微物镜收集,并通过聚焦投射到光电感应器件上,得到待测样品的荧光图像;4)移动所述的纳米水平位移台,并重复步骤1)~3),对待测样品进行水平二维扫描,得到与各扫描位置相对应的荧光图像;5)对所得到的各幅荧光图像进行平移、叠加处理,最终恢复出待测样品的二维超分辨图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310460512.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top