[发明专利]全抛釉瓷砖生产方法无效
| 申请号： | 201310455762.6 | 申请日： | 2013-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104513053A | 公开（公告）日： | 2015-04-15 |
| 发明（设计）人： | 李继升 | 申请（专利权）人： | 青岛市首胜实业有限公司 |
| 主分类号： | C04B33/00 | 分类号： | C04B33/00;C04B41/89 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 266317 山东省青岛*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种全抛釉瓷砖生产方法，将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；在1100-1200℃的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；抛釉：采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品，方法简单，成品表面光亮柔和，坚硬耐磨。 | ||
| 搜索关键词： | 全抛釉 瓷砖 生产 方法 | ||
【主权项】：
一种全抛釉瓷砖生产方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）将钾钠长石、方解石、石英、硅灰石、高岭土、氧化铝进行研磨、干燥成粉；（2）将干燥的粉料使用全自动压砖机成型；（3）将成型的砖坯进行干燥使其强度增加以便进行表面装饰；（4）对干燥的砖坯进行表面施釉和印花，并在印花后的砖坯上上一道用于抛光的透明釉；（5）在1100—1200℃的温度下进行烧成，控制产品的吸水率在0.5%以下，达到完全玻化的状态；（6）抛釉：采用弹性全抛工艺进行釉面抛光，制得成品。
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