[发明专利]光刻胶清洗剂在审
| 申请号： | 201310442284.5 | 申请日： | 2013-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN103513523A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 杨桂望 | 申请（专利权）人： | 杨桂望 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省青岛*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶清洗剂，其特征在于：包括有机胺化合物、防腐蚀剂和有机溶剂。其克服现有技术的光刻胶清洗剂或者清洗能力不足，或者对半导体晶片基材的腐蚀较严重的缺陷，提供一种清洗能力强，且腐蚀性较低。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗剂，其特征在于：包括有机胺化合物、防腐蚀剂和有机溶剂。
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