[发明专利]3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法有效

专利信息
申请号: 201310439837.1 申请日: 2013-09-24
公开(公告)号: CN104465315B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 林晓玲;章晓文;陆裕东;苏菊花 申请(专利权)人: 工业和信息化部电子第五研究所
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 万志香,曾旻辉
地址: 510610 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法,包括如下步骤声学扫描显微检测3D叠层芯片封装ULSI试样的内部结构,确定所需研磨区域及其面积;用热熔蜡将3D叠层芯片封装ULSI试样固定在研磨台上;研磨根据上述研磨区域的面积,选择研磨钻头、研磨力度和研磨方向,去除封装材料和芯片,研磨至目标芯片表面覆盖的保护层;采用化学腐蚀法,去除上述的保护层。本发明以研磨为主,化学腐蚀为辅;研磨针对特定局部区域进行去除,不损伤下层芯片内部结构及其键合引线;化学腐蚀法将目标芯片表面上覆盖的保护层或芯片粘结剂去除,目标芯片暴露;所得的目标芯片内部结构和芯片上的键合引线完整不受损,方便后续的电测分析。
搜索关键词: 芯片 封装 器件 分离 方法
【主权项】:
一种3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)确定研磨区域及其面积:声学扫描显微检测3D叠层芯片封装ULSI试样的内部结构,确定研磨区域及其面积;(2)固定:用热熔蜡将3D叠层芯片封装ULSI试样固定在研磨台上;(3)研磨:根据步骤(1)所确定的研磨区域及其面积,选择研磨钻头、研磨力度和研磨方向,去除研磨区域的封装材料和芯片,研磨至目标芯片表面覆盖的保护层;所述研磨中:若研磨面积为3‑6mm2,研磨钻头为1mm,若研磨面积为7‑15mm2,研磨钻头为3mm,若研磨面积为大于15mm2,研磨钻头为5mm;(4)化学腐蚀:采用化学腐蚀法,去除步骤(3)所述的保护层。
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