[发明专利]3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法有效
申请号: | 201310439837.1 | 申请日: | 2013-09-24 |
公开(公告)号: | CN104465315B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 林晓玲;章晓文;陆裕东;苏菊花 | 申请(专利权)人: | 工业和信息化部电子第五研究所 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 万志香,曾旻辉 |
地址: | 510610 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法,包括如下步骤声学扫描显微检测3D叠层芯片封装ULSI试样的内部结构,确定所需研磨区域及其面积;用热熔蜡将3D叠层芯片封装ULSI试样固定在研磨台上;研磨根据上述研磨区域的面积,选择研磨钻头、研磨力度和研磨方向,去除封装材料和芯片,研磨至目标芯片表面覆盖的保护层;采用化学腐蚀法,去除上述的保护层。本发明以研磨为主,化学腐蚀为辅;研磨针对特定局部区域进行去除,不损伤下层芯片内部结构及其键合引线;化学腐蚀法将目标芯片表面上覆盖的保护层或芯片粘结剂去除,目标芯片暴露;所得的目标芯片内部结构和芯片上的键合引线完整不受损,方便后续的电测分析。 | ||
搜索关键词: | 芯片 封装 器件 分离 方法 | ||
【主权项】:
一种3D叠层芯片封装器件的芯片分离方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)确定研磨区域及其面积:声学扫描显微检测3D叠层芯片封装ULSI试样的内部结构,确定研磨区域及其面积;(2)固定:用热熔蜡将3D叠层芯片封装ULSI试样固定在研磨台上;(3)研磨:根据步骤(1)所确定的研磨区域及其面积,选择研磨钻头、研磨力度和研磨方向,去除研磨区域的封装材料和芯片,研磨至目标芯片表面覆盖的保护层;所述研磨中:若研磨面积为3‑6mm2,研磨钻头为1mm,若研磨面积为7‑15mm2,研磨钻头为3mm,若研磨面积为大于15mm2,研磨钻头为5mm;(4)化学腐蚀:采用化学腐蚀法,去除步骤(3)所述的保护层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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