[发明专利]基于表面等离子体波照明的光刻成像设备及光刻成像方法有效
| 申请号： | 201310438387.4 | 申请日： | 2013-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN103454866A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;王彦钦;姚纳;胡承刚;蒲明薄;王炯;刘利芹;杨磊磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了基于表面等离子体波照明的光刻成像设备及光刻成像方法。一示例光刻成像设备可以包括：表面等离子体SP波照明场产生装置，被配置为接收以一定方向入射的远场照明光束，以产生特定传输波长的SP波照明场。SP波照明场可以通过掩模激发待成像的光场。远场照明光束的入射角度可以被设置为能够产生特定传输波长的SP波照明场，实现SP波通过掩模层的+1级或-1级衍射光与0级衍射光发生干涉。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 表面 等离子体 照明 光刻 成像 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻成像设备，包括：表面等离子体SP波照明场产生装置，被配置为接收以一定方向入射的远场照明光束，以产生特定传输波长的SP波照明场，其中SP波照明场通过掩模激发待成像的光场，以及远场照明光束的入射角度被设置为使得能够产生特定传输波长的SP波照明场，从而实现SP波通过掩模层的+1级或‑1级衍射光与0级衍射光发生干涉。
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