[发明专利]一种磁传感装置的制备工艺

摘要

本发明揭示了一种磁传感装置的制备工艺，包括如下步骤在基底的表面设置沟槽；在基底表面沉积磁性材料，形成磁性材料层；磁性材料层包括设置于基底表面的第一部分及沟槽内的第二部分；回刻位于基底表面的磁性材料层的第一部分；沉积第一介质材料；沉积光刻胶，曝光，显影；刻蚀形成ARM图形；沉积第二介质材料；通过光刻工艺和刻蚀工艺形成接触窗口；沉积金属层，并刻蚀，形成感应单元的电极层。本发明提出的磁传感装置的制备工艺，通过提高第三轴的磁性材料的物理厚度，从而增加第三轴的感应能力；同时不会增加感应单元的磁性材料在第一、第二轴方向的厚度。因此，本发明工艺可提高磁传感装置的感应能力及灵敏度。

主权项

一种磁传感装置的制备工艺，其特征在于，所述制备工艺包括如下步骤：步骤S1、在基底的表面设置沟槽；步骤S2、在包含有沟槽的基底表面沉积磁性材料，形成磁性材料层；磁性材料层包括设置于基底表面的第一部分及沟槽内的第二部分；磁性材料层的第一部分的厚度大于200A、小于5000A；步骤S3、回刻位于基底表面的磁性材料层的第一部分，保留第一部分的厚度为0.3至2.5倍第二部分的厚度；步骤S4、沉积第一介质材料，形成第一介质材料层；步骤S5、沉积光刻胶，曝光，显影；步骤S6、刻蚀形成ARM图形，去除部分磁性材料，去除光刻胶；在基底上分别形成感应单元的磁性材料层、导磁单元；导磁单元的主体部分形成于沟槽内，并有部分露出沟槽至基底表面，用以感应第三方向的磁信号，并将该磁信号输出到感应单元进行测量；感应单元的磁性材料层形成于沟槽外，感应单元用以测量第一方向或/和第二方向的磁场，结合导磁单元输出的磁信号，能测量被导磁单元引导到第一方向或/和第二方向的第三方向磁场；第一方向、第二方向、第三方向两两相互垂直；步骤S7、沉积第二介质材料；步骤S8、通过光刻工艺和刻蚀工艺形成接触窗口；步骤S9、沉积金属层，并刻蚀，形成感应单元的电极层。