[发明专利]并行扫描激光预处理装置及方法有效
| 申请号： | 201310385524.2 | 申请日： | 2013-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN103434149A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 马平;郑轶;刘志超;浦云体;王刚 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | B29C71/04 | 分类号： | B29C71/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种并行扫描激光预处理装置及方法，属于光学技术领域。装置包括沿激光传输方向设置的激光光源、机械快门、能量衰减器、光束汇聚系统、分光劈板和合束镜，还包括光束轮廓仪、激光能量计、信标光源和电动位移台；光学元件置于电动位移台上；装置与光学元件之间设有倾斜镜阵列，光学元件前设置有检测相机。本发明在重复利用激光能量提高预处理效率的同时，解决了损伤导致的反射辐照不均匀问题，可高速有效提升大口径光学元件激光损伤阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 并行 扫描 激光 预处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种并行扫描激光预处理装置，包括沿激光传输方向设置的激光光源（1）、机械快门（2）、能量衰减器（3）、光束汇聚系统（4）、分光劈板（5）和合束镜（13），还包括光束轮廓仪（6）、激光能量计（7）、信标光源（8）和电动位移台（12）；光学元件（11）置于电动位移台（12）上；其特征在于，装置与光学元件（11）之间设有倾斜镜阵列（9），光学元件（11）前设置有检测相机（10）。
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