[发明专利]溅射靶材及其制作方法

摘要

本发明提供一种溅射靶材及其制作方法，所述溅射靶材包括靶材组件，具有溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；密封槽，开设于所述靶材组件密封面上，用于容纳密封部件；多于4个的排气槽，开设在所述靶材组件的密封面上，所述排气槽与所述密封槽相连通，用于将所述密封槽内的气体排出。所述制作方法包括提供靶材组件，并在靶材组件上加工溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；在靶材组件的所述密封面上开设密封槽，所述密封槽用于安置使所述靶材组件密封于沉积室中的密封部件；在靶材组件的密封面上开设多于4个排气槽，使所述排气槽与密封槽相互连通。本发明的优点在于提供足够的排气面积以排出所述密封槽内的截留气体，避免异常放电现象发生。

主权项

一种溅射靶材，用于密封于沉积室中，其特征在于，所述溅射靶材包括：靶材组件，具有溅射面以及围绕所述溅射面的密封面；密封槽，开设于所述靶材组件密封面上，用于容纳密封部件；多于4个的排气槽，开设在所述靶材组件的密封面上，所述排气槽与所述密封槽相连通，用于将所述密封槽内的气体排出；所述靶材组件包括：背板，所述背板的中心部分相对于背板的边缘部分凸起，形成凸起部；靶材，设置于背板的凸起部上，所述靶材的表面构成所述溅射面；所述背板的边缘部的表面构成所述密封面；所述密封面上设有一围绕所述凸起部的固定圈，用于压紧所述密封部件；所述固定圈能够使所述排气槽完全露出或者部分露出；所述溅射面呈圆形，所述密封面为围绕圆形溅射面的圆环面，所述密封槽为围绕圆形溅射面的圆形槽；所述排气槽靠近所述密封槽圆心的一端为球面或者半球面；所述多于4个的排气槽沿所述密封槽的圆周方向均匀分布。