[发明专利]一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法，采用磁控溅射工艺，首先在玻璃基底上预制一层SiO2薄膜，接着再溅射一层呈岛状生长的锡膜将其覆盖，并进行等离子体刻蚀，得到具有类似岛状表面形貌的SiO2薄膜，接下来以其作为后续AZO薄膜（掺铝的氧化锌）溅射法生长的基底模板，使得薄膜能够模仿其表面形貌而生长，最终可直接形成表面具有一定绒度的AZO薄膜，免去常规工艺中的酸刻蚀制绒过程，降低了所需的初始薄膜厚度，以及生产制造成本。

主权项

一种具有绒面结构的AZO薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：a、首先在玻璃基底上制备一层厚度为50~100nm的SiO2薄膜，并使其具有岛状的表面形貌，b、接着以岛状结构的SiO2薄膜为基底，采用磁控溅射工艺制备AZO薄膜，使其模仿基底SiO2薄膜的表面形貌生长，并控制膜厚为600~700nm，最终直接形成表面具有一定绒度的AZO薄膜。