[发明专利]中空颗粒的分散体的制造方法、减反射膜的制造方法和光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 201310342590.1 | 申请日： | 2013-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN103570030A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 龟野优 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;C03C17/23;C09D1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及中空颗粒的分散体的制造方法、减反射膜的制造方法和光学元件的制造方法。中空颗粒的分散体的制造方法包括：通过在水性介质中在主要由有机化合物制成的颗粒的表面上形成主要由无机系化合物制成的壳来制备核壳型颗粒，和通过使核壳型颗粒疏水化并且用芳族有机溶剂对核壳型颗粒进行抽提而得到由壳形成的中空颗粒的分散体。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 颗粒 散体 制造 方法 减反射膜 光学 元件 | ||
【主权项】：
中空颗粒的分散体的制造方法，该方法包括：通过在水性介质中在主要由有机化合物制成的颗粒的表面上形成主要由无机系化合物制成的壳来制备核壳型颗粒，和通过使核壳型颗粒疏水化并且用芳族有机溶剂对核壳型颗粒进行抽提而得到由壳形成的中空颗粒的分散体。
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