[发明专利]阵列光学器件在审
| 申请号： | 201310331511.7 | 申请日： | 2013-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103576314A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | A.弗兰;J.维特佐雷克 | 申请（专利权）人： | 霍夫曼-拉罗奇有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B3/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张贵东 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明公开一种仪器，具有包括物镜系统的透镜系统。所述物镜系统被布置在光源和多个反应区域之间。所述物镜系统包括场透镜阵列和光瞳面，其中所述光瞳面和所述光源位于场透镜阵列的相对侧。场透镜阵列被布置在所述光源与所述多个反应区域之间，所述场透镜阵列包括多个场透镜阵列元件，其中场透镜阵列中的任意一个场透镜阵列元件的曲率半径、曲率中心的厚度和位置是可变的，并且布置在所述光源和所述反应区域之间的光束路径中，从而所述场透镜阵列元件的任何一个能够将位于所述光源和所述场透镜阵列之间的光瞳光圈成像到位于所述光瞳面上的光瞳，其中位于光瞳面上的光瞳的阵列由场透镜阵列产生。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 光学 器件 | ||
【主权项】：
一种仪器，包括：具有多个空间隔开的反应区域的块；发射包括至少一个激发频率的光的光源；包括物镜系统的透镜系统，其中所述物镜系统被布置在光源和多个反应区域之间，所述物镜系统包括场透镜阵列和光瞳面，其中所述光瞳面和所述光源位于场透镜阵列的相对侧，其中所述场透镜阵列被布置在所述光源与所述多个反应区域之间，所述场透镜阵列包括多个场透镜阵列元件，其中场透镜阵列中的任意一个场透镜阵列元件的曲率半径、曲率中心的厚度和位置是可变的，并且布置在所述光源和所述反应区域之间的光束路径中，从而所述场透镜阵列元件的任何一个能够将位于所述光源和所述场透镜阵列之间的光瞳光圈成像到位于所述光瞳面上的光瞳，其中位于光瞳面上的光瞳的阵列由所述场透镜阵列产生，检测器，布置来接收从多个反应区域发射的发射光束，其中所述物镜系统被进一步布置在所述多个反应区域和所述检测器之间，并且其中所述透镜系统另外还包括在所述场透镜阵列和所述检测器之间的发射光物镜，使得反应区域在检测器上成像。
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