[发明专利]一种半导体薄膜生长装置及其生长方法有效
申请号: | 201310315026.0 | 申请日: | 2013-07-25 |
公开(公告)号: | CN103388177A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 刘兴昉;刘斌;郑柳;董林;刘胜北;闫果果;孙国胜;曾一平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C30B25/16 | 分类号: | C30B25/16;C30B25/14;C30B29/64;C30B29/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种半导体薄膜生长设备及其生长方法,该生长设备适用于化学气相沉积工艺进行半导体薄膜的生长。所述半导体薄膜生长设备,其包括:载气装置、液态源装置、生长室、旁路以及真空系统,这些部件之间通过管道按一定的逻辑关系连结成一个整体;且每条管道可独立的打开或关闭。所述液态源装置包括多个源瓶,安装在一个惰性气体控制柜里,其中源瓶安装在恒温槽里,通过载气鼓泡法将液态源输送至生长室,并在生长室中进行化学反应合成所需半导体薄膜。所述载气直接通过主管道进入生长室,并通过打开或关闭旁路控制生长室气源,以达到控制薄膜生长以及切换过程中平衡生长室压力的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 薄膜 生长 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体薄膜生长设备,其包括:载气装置、液态源装置、生长室、旁路以及真空系统,这些部件之间通过管道按一定的逻辑关系连结成一个整体;且每条管道可独立的打开或关闭。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310315026.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于核电站放射性热点截留的可移动装置
- 下一篇:功率十瓦警笛