[发明专利]TFT玻璃基板单面蚀刻的方法无效
申请号: | 201310312200.6 | 申请日: | 2013-07-24 |
公开(公告)号: | CN103359949A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 阮军;舒滔 | 申请(专利权)人: | 惠晶显示科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 | 代理人: | 孙高 |
地址: | 215614 江苏省苏州市张家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及TFT玻璃基板单面蚀刻的方法,包括如下步骤:a、将需要单面薄化的液晶玻璃基板进行清洗烘干处理;b、将需要保护的液晶玻璃基板面进行贴耐酸膜保护;c、将液晶玻璃基板和耐酸膜的夹缝之间点耐酸紫外线胶水,并使用紫外线进行照射,将胶水固化;d、采用蚀刻装置将处理过的液晶玻璃基板进行蚀刻处理;e、将单面蚀刻后的液晶玻璃基板边缘的紫外线胶使用对应特定溶液清洗掉;f、将液晶玻璃基板进行脱耐酸膜处理;g、将脱膜后的液晶玻璃基板清洗干净。利用本发明方法加工液晶玻璃基板可以有效解决现有技术中液晶玻璃基板单面薄化过程中边缘漏液的问题,该方法同样适用于其他需要单面蚀刻的玻璃。 | ||
搜索关键词: | tft 玻璃 单面 蚀刻 方法 | ||
【主权项】:
TFT玻璃基板单面蚀刻的方法,其特征在于:包括如下步骤:a、将需要单面薄化的液晶玻璃基板进行清洗烘干处理;b、将需要保护的液晶玻璃基板面进行贴耐酸膜保护;c、将液晶玻璃基板和耐酸膜的夹缝之间点耐酸紫外线胶水,并使用紫外线进行照射,将胶水固化;d、采用蚀刻装置将处理过的液晶玻璃基板进行蚀刻处理;e、将单面蚀刻后的液晶玻璃基板边缘的紫外线胶使用对应特定溶液清洗掉;f、将液晶玻璃基板进行脱耐酸膜处理;g、将脱膜后的液晶玻璃基板清洗干净。
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