[发明专利]抗蚀剂剥离剂在审
| 申请号： | 201310306724.4 | 申请日： | 2013-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN103425003A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 杨桂望 | 申请（专利权）人： | 杨桂望 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省青岛*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光致抗蚀膜剥离剂组合物，其包括有机胺，二甘醇单烷基醚，非质子极性溶剂N，N-二甲基乙酰胺，防腐剂和水。其在剥离用于布图电子电路或显示元件金属布线的抗蚀膜的过程中，不腐蚀金属布线，且具有优秀的抗蚀膜剥离性。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 剥离 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀膜剥离剂组合物，其特征在于：包括有机胺，二甘醇单烷基醚，非质子极性溶剂N，N‑二甲基乙酰胺，缓蚀剂和水。
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