[发明专利]用于与VSCEL或PIN阵列耦合的光纤阵列及其制造方法有效
申请号: | 201310306602.5 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN103383482A | 公开(公告)日: | 2013-11-06 |
发明(设计)人: | 江永胜;阮景;罗志祥;朱志实 | 申请(专利权)人: | 武汉博昇光电技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 430223 湖北省武汉市东湖高*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于与VSCEL或PIN阵列耦合的光纤阵列及其制造方法,该光纤阵列包括盖片、刻槽基片和光纤微带,光纤微带包括除去了光纤图层的裸露光纤微带部分,刻槽基片上形成有用于放置裸露光纤微带部分的V形刻槽,盖片压在裸露光纤微带部分槽上,刻槽基片、盖片和裸露光纤微带部分通过粘合剂连接固定,盖片的长度小于V形刻槽的长度,裸露光纤微带部分的端面为倾斜角为45度的光学平面,且光学平面朝向刻槽基片。该光纤阵列通过厚度可定制的盖片来控制裸露光纤微带部分的45°光学平面与VCSEL阵列或者PIN阵列的耦合距离,实现高效率的耦合。制造该光纤阵列方法简单,易于实现,且成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 用于 vscel pin 阵列 耦合 光纤 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于与VSCEL或PIN阵列耦合的光纤阵列,包括盖片、刻槽基片和光纤微带,所述光纤微带包括具有施加光纤图层的光纤微带图层部分和除去光纤图层的裸露光纤微带部分,所述刻槽基片上形成有用于放置所述裸露光纤微带部分的V形刻槽,且所述裸露光纤微带部分从所述V形刻槽的前端伸出,所述盖片用于把所述裸露光纤微带部分压在所述V形刻槽上,所述刻槽基片、盖片和裸露光纤微带部分通过粘合剂连接固定,该V形刻槽的前端为V形刻槽与所述光纤微带图层部分相对的一端,其特征在于:所述盖片的长度小于所述V形刻槽的长度,且所述盖片的一端与所述V形刻槽朝向所述光纤微带图层部分的一端对齐;所述裸露光纤微带部分的端面为倾斜角为45度的光学平面,且该光学平面朝向所述刻槽基片倾斜45度。
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